L'Institut de recherche industrielle de Shanghai a réalisé une percée dans le domaine de la technologie des détecteurs infrarouges non refroidis

Ces dernières années, avec le développement rapide de la technologie des circuits intégrés et des systèmes microélectromécaniques (MEMS), la technologie des détecteurs à réseau focal infrarouge non refroidi a progressivement mûri et une série de produits ont atteint une production de masse à grande échelle. L'Institut de recherche industrielle de Shanghai se concentre sur la recherche et le développement de processus de base au-delà des circuits intégrés de Moore et développe la technologie des détecteurs infrarouges non refroidis depuis 2018. Après des années de recherche et de recherche techniques, une plate-forme complète de processus de capteurs infrarouges composée de processus de modules standard a été établie avec succès. À l'heure actuelle, l'Institut de recherche industrielle de Shanghai fournit des processus communs et des services de processus personnalisés pour les détecteurs infrarouges non refroidis à de nombreux clients importants, notamment dans le domaine de la technologie du silicium amorphe et de l'oxyde de vanadium (VOx). De nombreux produits sont entrés dans la phase de production de masse et présentent d'excellentes performances. . En termes de taille de produit, l'Institut de recherche industrielle de Shanghai a produit avec succès des produits en série de 17 μm et 12 μm, et les produits pixel de 8 μm ont également achevé le développement technologique et démarré la production de masse en petits lots. En outre, l'Institut de recherche industrielle de Shanghai propose également des produits à très grande échelle avec différents pixels, du plus petit au plus grand, pour aider les clients à améliorer la compétitivité de leurs produits.