Shanghai Hejing héichwäerteg epitaxial wafer R&D an Industrialiséierungsprojet

Shanghai Hejing's qualitativ héichwäerteg epitaxial Wafer R&D an Industrialiséierungsprojet wäert eng jährlech Produktiounskapazitéit vun ongeféier 180.000 12-Zoll epitaxial Wafere addéieren, ongeféier 60.000 8-Zoll epitaxial Wafere, an ongeféier 240.000 6-Zoll epitaxial Wafere. Déi total Investitiounskala vum Projet ass 188,5626 Millioune Yuan, a Shanghai Jingmeng ass verantwortlech fir d'Ëmsetzung.