Mitsubishi Electric investéiert an Novel Crystal Technology fir d'Galliumoxid Wafer Technologie auszeleeën

Mitsubishi Electric huet seng Investitioun an Novel Crystal Technology ugekënnegt, eng Firma déi Galliumoxid-Substrate an epitaxial Wafere fir Kraaft Hallefleit produzéiert. Duerch dës Investitioun gëtt de Mitsubishi Electric Power Semiconductor Design a Fabrikatiounstechnologie kombinéiert mat der NCT's Galliumoxid Wafer Technologie fir d'technologesch Innovatioun vun der Firma am Halbleiterfeld weider ze förderen.