Tianyu Semiconductor ha logrado un gran avance en la tecnología de obleas epitaxiales de carburo de silicio

A través de la innovación continua en el proceso de producción, Tianyu Semiconductor ha logrado importantes avances en campos tecnológicos centrales, como la tecnología de epitaxia de carburo de silicio de 8 pulgadas, la tecnología de epitaxia multicapa y la tecnología de epitaxia rápida de película gruesa, colocando a la empresa a la vanguardia de la oblea epitaxial de carburo de silicio de China. industria.