Piikarbidin yksikidekasvatusteknologian kehittäminen

Piikarbidin yksikidekasvatusteknologiaan kuuluu pääasiassa fyysinen höyrynsiirtomenetelmä (PVT), korkean lämpötilan kemiallinen höyrypinnoitusmenetelmä (HTCVD) ja nestefaasimenetelmä. PVT-menetelmä on tällä hetkellä yleisin valmistusmenetelmä, mutta kasvuvauhti on hidasta. HTCVD-menetelmällä on nopeampi kasvuvauhti ja siinä on suuri potentiaali. Nestefaasimenetelmä oli laajalti suosittu 1960-luvulla, mutta PVT-menetelmän teknologisen läpimurron myötä se syrjäytyi vähitellen. Koska PVT-menetelmä kuitenkin kohtaa haasteita suurikokoisten piikarbidikiteiden valmistuksessa ja kustannusten alentamisessa, nestefaasimenetelmä on herättänyt teollisuuden huomion uudelleen.