Fortschritte inländischer Unternehmen im Bereich der Züchtung von Siliziumkarbid-Einkristallen

Im Jahr 2020 gab die Chaoxingxing Company die erfolgreiche Entwicklung von Chinas erster HTCVD-Anlage für die Züchtung von Siliziumkarbid-Einkristallen bekannt. Darüber hinaus haben Tianyue Advanced Company und Lattice Field Semiconductor Company auch Fortschritte bei der Flüssigphasenmethode gemacht und erfolgreich großformatige Siliziumkarbidkristalle hergestellt.