Micron (Suzhou) တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ဌာနချုပ် ပရောဂျက်သစ်သည် Suzhou စက်မှုဥယျာဉ်တွင် အုတ်မြစ်ချခဲ့သည်။

မတ်လ 26 ရက်နေ့တွင်၊ Micron (Suzhou) တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းရုံးချုပ်ပရောဂျက်အသစ်ကို Suzhou Industrial Park တွင်တရားဝင်ဖွင့်လှစ်ခဲ့သည်။ New Micron သည် 2013 ခုနှစ်တွင် စတင်တည်ထောင်ခဲ့ပြီး ခေတ်မီတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများ၏ သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးကို အာရုံစိုက်ကာ ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ၏ ပင်မအစိတ်အပိုင်းများကို သုတေသနပြုခြင်း၊ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းကို ချဲ့ထွင်ရန် ကတိပြုပါသည်။ ကုမ္ပဏီသည် နိုင်ငံတကာအဆင့်မြင့် superconducting သံလိုက်စက်ကွင်း MCZ semiconductor အဆင့် တစ်ခုတည်းသော crystal silicon rod ကြီးထွားမှုနည်းပညာကို အောင်မြင်စွာ တီထွင်ခဲ့ပြီး ၎င်း၏အဓိကလုပ်ငန်းတွင် တစ်ခုတည်းသော crystal silicon အစိတ်အပိုင်းများ၊ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အစိတ်အပိုင်းများ၊ etching cavity surface coating စသည်တို့ပါဝင်သည်။