TSMC ei välttämättä ota käyttöön ASML:n seuraavan sukupolven High NA EUV -litografialaitetta

TSMC:n johtaja sanoi, että yrityksen ei välttämättä tarvitse käyttää ASML:n seuraavan sukupolven High NA EUV -litografiakonetta tulevan vuoden 2027 A16-siruteknologiansa valmistukseen. Vaikka High NA EUV -litografiakoneiden odotetaan pienentävän sirun kokoa kahdella kolmasosalla, TSMC:n on punnittava kustannuksiaan ja luotettavuuttaan. TSMC voi suunnitella A16-mallinsa tämän tekniikan mukaiseksi, mutta sitä ei ole vielä päätetty.