TSMC kanske inte använder ASML:s nästa generations High NA EUV litografimaskin

En TSMC-chef sa att företaget inte nödvändigtvis behöver använda ASML:s nästa generations High NA EUV litografimaskin för att tillverka sin kommande 2027 A16-chipteknologi. Även om High NA EUV litografimaskiner förväntas minska chipstorleken med två tredjedelar, måste TSMC väga dess kostnad och tillförlitlighet. TSMC kan designa sin A16-fab för att rymma denna teknik, men det har ännu inte fastställts.