TSMC däerf net ASML seng nächst Generatioun High NA EUV Lithographie Maschinn adoptéieren
ASR
2027
EUV
TSMC
ASML
Chip
Zouverlässegkeet
Exekutiv
Technologie
Lithographie
Lithographie Maschinn
Maschinn
ASM
2024-12-25 04:25
0
En TSMC Exekutiv sot datt d'Firma net onbedéngt d'ASML's nächst Generatioun High NA EUV Lithographiemaschinn brauch fir seng zukünfteg 2027 A16 Chip Technologie ze fabrizéieren. Obwuel High NA EUV Lithographie Maschinnen erwaart ginn Chip Gréisst vun zwee-Drëttel ze reduzéieren, muss TSMC seng Käschten an Zouverlässegkeet weien. TSMC ka säin A16 Fab designen fir dës Technologie z'empfänken, awer dat ass nach net festgeluecht.
