TSMC morda ne bo sprejel naslednje generacije litografskega stroja High NA EUV ASML

Izvršni direktor TSMC je dejal, da podjetju ni nujno, da uporablja ASML-jev litografski stroj naslednje generacije High NA EUV za proizvodnjo svoje prihajajoče tehnologije čipov A16 leta 2027. Čeprav naj bi litografski stroji High NA EUV zmanjšali velikost čipov za dve tretjini, mora TSMC pretehtati njihove stroške in zanesljivost. TSMC bo morda oblikoval svojo tovarno A16 tako, da bo ustrezal tej tehnologiji, vendar to še ni določeno.