TSMC možda neće usvojiti ASML-ov High NA EUV litografski stroj sljedeće generacije

Izvršni direktor TSMC-a rekao je da tvrtka ne mora nužno koristiti ASML-ov High NA EUV litografski stroj sljedeće generacije za proizvodnju svoje nadolazeće tehnologije čipova A16 2027. Iako se očekuje da će strojevi za litografiju High NA EUV smanjiti veličinu čipa za dvije trećine, TSMC treba odvagnuti njegovu cijenu i pouzdanost. TSMC bi mogao dizajnirati svoju tvornicu A16 kako bi se prilagodio ovoj tehnologiji, ali to još nije utvrđeno.