英特爾在2nm製程競爭中展現進取姿態

英特爾在2nm製程競爭中展現出積極的進取姿態，不僅率先採購了ASML的High NA EUV光刻機，還計劃採用創新的背面供電技術。這些措施將有助於英特爾在2nm製程領域取得領先地位，進而推動其IDM2.0策略的實施。