Intel демонстрирует агрессивную позицию в конкуренции с 2-нм процессами

Intel продемонстрировала агрессивную позицию в конкуренции с 2-нм техпроцессом. Она не только стала лидером в приобретении машины для литографии High NA EUV компании ASML, но и планирует внедрить инновационную технологию заднего источника питания. Эти инициативы помогут Intel занять лидирующие позиции в области 2-нм процессов и способствовать дальнейшему внедрению стратегии IDM2.0.