Intel ukazuje agresivní postoj v konkurenci 2nm procesů

Společnost Intel prokázala agresivní přístup v soutěži 2nm procesů. Nejenže se ujal vedení v nákupu litografického stroje ASML High NA EUV, ale také plánuje zavést inovativní technologii zadního napájení. Tyto iniciativy pomohou společnosti Intel získat vedoucí pozici v oblasti 2nm procesů a dále podporovat implementaci její strategie IDM2.0.