Intel ავლენს აგრესიულ პოზიციას 2 ნმ პროცესის კონკურენციაში

Intel-მა აჩვენა აგრესიული დამოკიდებულება 2 ნმ პროცესის კონკურსში, მან არა მხოლოდ ლიდერობა დაიკავა ASML-ის High NA EUV ლითოგრაფიის აპარატის შეძენისას, არამედ გეგმავს გამოიყენოს ინოვაციური უკანა ელექტრომომარაგების ტექნოლოგია. ეს ინიციატივები დაეხმარება Intel-ს მოიპოვოს წამყვანი პოზიცია 2 ნმ პროცესის სფეროში და კიდევ უფრო შეუწყოს ხელი მისი IDM2.0 სტრატეგიის განხორციელებას.