Intel ohechauka postura agresiva competencia proceso 2nm-pe

Intel ohechauka actitud agresiva competencia proceso 2nm-pe Ndaha'éi omotenondéva ojoguávo máquina de litografía ASML High NA EUV, sino avei oreko plan oadopta haguã tecnología innovadora fuente de alimentación trasera. Ko’ã tembiapo oipytyvõta Intel-pe ohupyty haguã peteĩ tenda tenondegua ámbito proceso 2nm-pe ha omotenondevéta implementación estrategia IDM2.0.