Micron mun nota Canon nanoimprint lithography vélar til að draga úr DRAM framleiðslukostnaði

Micron ætlar að nota nanoimprint (NIL) lithography vél frá Canon til að draga úr kostnaði við að framleiða DRAM minni. Micron kynnti kosti nanoimprint tækni, svo sem lækkun kostnaðar og aukin framleiðslu skilvirkni. Nýja FPA-1200NZ2C nanoimprint lithography vél Canon mun hjálpa til við að ná þessu markmiði.