Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. ja Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. jakavat China Patent Excellence Award -palkinnon

Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd.:n ja Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd.:n yhdessä kehittämä "kiteiden kasvun halkaisijan säätömenetelmä, laite, laitteet ja tietokoneen tallennusväline" on mahdollistanut niille yhteisen voiton. 25. China Patent Excellence Award -palkinto. Tämän yhteistyömallin menestys on tuonut uusia kehitysideoita muille alan yrityksille.