Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. og Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. deler China Patent Excellence Award

"Krystalvækstdiameterkontrolmetoden, enhed, udstyr og computerlagringsmedie"-teknologien udviklet i fællesskab af Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. og Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. har gjort det muligt for dem at vinde i fællesskab den 25. China Patent Excellence Award. Succesen med denne samarbejdsmodel har givet nye udviklingsideer til andre virksomheder i branchen.