Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. a Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. zdieľajú ocenenie China Patent Excellence Award

Technológia „metódy riadenia rastu priemeru kryštálov, zariadenia, zariadenia a počítačového pamäťového média“ spoločne vyvinutá spoločnosťami Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. a Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. im umožnila spoločne vyhrať 25. ocenenie China Patent Excellence Award. Úspech tohto modelu spolupráce priniesol nové nápady na rozvoj pre ďalšie spoločnosti v tomto odvetví.