Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. a Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. sdílejí ocenění China Patent Excellence Award

Technologie „způsob kontroly růstu průměru krystalů, zařízení, vybavení a počítačové paměťové médium“ společně vyvinutá společnostmi Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. a Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. jim umožnila společně vyhrát 25. ocenění China Patent Excellence Award. Úspěch tohoto modelu spolupráce přinesl nové nápady na rozvoj pro další společnosti v oboru.