Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. і Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. поділяють нагороду China Patent Excellence Award

Технологія «метод контролю діаметра росту кристалів, пристрій, обладнання та комп’ютерне середовище зберігання», спільно розроблена Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. і Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd., дозволила їм спільно перемогти 25-та нагорода Китаю за досконалість патентів. Успіх цієї моделі співпраці дав нові ідеї розвитку для інших компаній галузі.