Comhoibríonn Zhongnan Diamond le Teicneolaíocht Leictreonaic na Síne chun ionaid dath NV Diamond ard-tiúchan a fhorbairt

D'fhoilsigh Zhongnan Diamond Co., Ltd agus an 13ú Institiúid Taighde na Síne Leictreonaic Teicneolaíocht Corporation staidéar le déanaí in Acta Physica Sinica ar úsáid taisceadh gal ceimiceach plasma micreathonn (MPCVD) chun ionaid dath NV Diamond ard-tiúchan a ullmhú. Is féidir leis an modh seo eilimintí nítrigine ard-tiúchana a dhó go cainníochtúil go diamanta, rud a mhéadaíonn go mór tiúchan na n-ionad datha Diamond NV agus a léiríonn dea-fheidhmíocht braite maighnéadach chandamach.