삼성전자, 평택 P2 공장에 10나노 7세대 D램 테스트 라인 구축

삼성전자가 평택 P2 공장에 10나노급(1d) 7세대 D램 테스트 라인을 구축했다. 이 테스트 생산 라인은 새로운 반도체 제품의 양산 가능성을 테스트하는 데 사용되는 시설이다. 연구개발 단계에서 차세대 칩의 성능이 결정되면 여기에 웨이퍼를 도입해 양산 수율을 향상시킬 예정이다. 현재 삼성 평택 10나노급 7세대 D램 공장 규모는 불투명하지만, 일반적으로 설치되는 테스트 생산 라인에서는 월 약 1만 장의 웨이퍼를 처리할 수 있다.