Samsung Electronics створює тестову лінію 10-нм DRAM сьомого покоління на заводі Pyeongtaek P2

Компанія Samsung Electronics створила тестову лінію DRAM сьомого покоління на рівні 10 нм (1d) на заводі Pyeongtaek P2. Ця тестова виробнича лінія використовується для перевірки потенціалу масового виробництва нових напівпровідникових продуктів. Після того, як продуктивність чіпа наступного покоління буде визначена на етапі досліджень і розробок, тут будуть представлені пластини, щоб почати покращувати продуктивність масового виробництва. Незважаючи на те, що масштаб фабрики 10-нанометрової пам’яті сьомого покоління Samsung Pyeongtaek класу Pyeongtaek наразі незрозумілий, зазвичай встановлена ​​тестова виробнича лінія може обробляти приблизно 10 000 пластин на місяць.