Samsung Electronics აყალიბებს 10 ნმ მეშვიდე თაობის DRAM ტესტის ხაზს Pyeongtaek P2 ქარხანაში

Samsung Electronics-მა დააფუძნა 10 ნმ დონის (1d) მეშვიდე თაობის DRAM ტესტის ხაზი Pyeongtaek P2 ქარხანაში. ეს სატესტო საწარმოო ხაზი არის დაწესებულება, რომელიც გამოიყენება ახალი ნახევარგამტარული პროდუქტების მასობრივი წარმოების პოტენციალის შესამოწმებლად. მიუხედავად იმისა, რომ Samsung-ის Pyeongtaek-ის 10 ნმ კლასის მეშვიდე თაობის DRAM ქარხნის მასშტაბები ამჟამად გაურკვეველია, ჩვეულებრივ დაყენებულ სატესტო საწარმოო ხაზს შეუძლია თვეში დაახლოებით 10,000 ვაფლის დამუშავება.