Weimai Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. ielika pamatus 100 tonnu smagajam pusvadītāju ikgadējam augstas klases fotolitogrāfijas materiālu projektam

26. martā Weimai Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. rīkoja revolucionāra ceremoniju 100 tonnu ikgadējam augstākās klases pusvadītāju fotolitogrāfijas materiālu projektam Hefei Sjiņdžaņas augsto tehnoloģiju zonā. Pēc projekta nodošanas ekspluatācijā tas palīdzēs realizēt vietējo galveno fotorezistu materiālu piegādi un būtiski ietekmēs reģionālās integrālo shēmu nozares stabilu attīstību.