Se desarrolló con éxito la primera oblea de niobato de litio de película fina fotónica de silicio de 8 pulgadas del mundo

La primera oblea de niobato de litio de película fina fotónica de silicio del mundo de 8 pulgadas se ha desarrollado con éxito en el laboratorio de Jiufengshan. Este logro utiliza la tecnología de unión de una oblea fotónica de silicio SOI de 8 pulgadas y una oblea de niobato de litio de 8 pulgadas para lograr una integración monolítica de funciones de transceptor optoelectrónico, lo que representa la tecnología más avanzada en integración optoelectrónica compuesta basada en silicio.