Sėkmingai sukurta pirmoji pasaulyje 8 colių silicio fotoninė plonasluoksnė ličio niobato plokštelė

Jiufengshan laboratorijoje buvo sėkmingai sukurta pirmoji pasaulyje 8 colių silicio fotoninė plonasluoksnė ličio niobato plokštelė. Šiam pasiekimui panaudota 8 colių SOI silicio fotoninės plokštelės ir 8 colių ličio niobato plokštelės sujungimo technologija, kad būtų pasiektas monolitinis optoelektroninių siųstuvo-imtuvo funkcijų integravimas, o tai yra pažangiausia silicio junginių optoelektroninės integracijos technologija.