ASML သည် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်ကို တိုးချဲ့ရန် စီစဉ်နေသည်။

ASML သည် လာမည့်နှစ်အနည်းငယ်အတွင်း ၎င်း၏ ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်ကို သိသိသာသာ တိုးမြှင့်သွားရန် စီစဉ်ထားသည်။ 2025 မှ 2026 ခုနှစ်အတွင်း၊ နက်နဲသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် (DUV) lithography စနစ် 600 နှင့် low-NA အစွန်းရောက် ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် (EUV) lithography စက် 90 နှင့် high-NA EUV အလုံး 20 တို့ကို နှစ်စဉ် ထုတ်လုပ်နိုင်လိမ့်မည်ဟု မျှော်လင့်ရသည်။