Укупна инвестиција у пројекат компаније Меск Елецтроницс за производњу 3,6 милиона 8-инчних силицијумских епитаксијалних плочица годишње износи око 1,4 милијарде јуана.

Укупна инвестиција у пројекат Меско Елецтроницс за производњу 3,6 милиона 8-инчних силицијумских епитаксијалних плочица годишње премашује 1,4 милијарде јуана, са грађевинском површином већом од 50.000 квадратних метара. Након што пројекат буде завршен, производиће 3,6 милиона 8-инчних силицијумских епитаксијалних плочица годишње, што ће помоћи Хенану да преузме водећу позицију у индустријама у настајању и промовише снажан развој локализације полупроводничких материјала.