A Mesk Electronics 3,6 millió 8 hüvelykes szilícium epitaxiális lapka gyártására irányuló projektjének teljes beruházása körülbelül 1,4 milliárd jüan.

A Mesko Electronics 3,6 millió 8 hüvelykes szilícium epitaxiális lapka gyártására irányuló projektjének teljes beruházása meghaladja az 1,4 milliárd jüant, több mint 50 000 négyzetméteres építési területtel. A projekt befejezése után évente 3,6 millió 8 hüvelykes szilícium epitaxiális lapát fog gyártani, ami segít a Henannak megszerezni a vezető szerepet a feltörekvő iparágakban, és elősegíti a félvezető anyagok lokalizációjának erőteljes fejlesztését.