کل سرمایه گذاری در پروژه Mesk Electronics برای تولید 3.6 میلیون ویفر اپیتاکسیال سیلیکونی 8 اینچی در سال حدود 1.4 میلیارد یوان است.

کل سرمایه گذاری در پروژه Mesko Electronics برای تولید 3.6 میلیون ویفر اپیتاکسیال سیلیکونی 8 اینچی سالانه بیش از 1.4 میلیارد یوان با مساحت ساخت بیش از 50000 متر مربع است. پس از تکمیل این پروژه، سالانه 3.6 میلیون ویفر اپیتاکسیال 8 اینچی سیلیکونی تولید خواهد کرد که به هنان کمک می کند تا در صنایع نوظهور پیشتاز شود و توسعه شدید بومی سازی مواد نیمه هادی را ارتقا دهد.