Introductio ad imagines photographicas machinae rationes et exempla principalia ASML

Typi lithographiae machinarum maxime in I-lineam, KrF, ArF methodum aridam, ArF immersionis genus et EUV dividuntur. Inter eos, EUV genus est antecedens. ASML exempla principalia sunt: ​​I-line XP 400/450 series, processui 300~ 500nm respondens; Circum 0~65nm; ArF series XT1900 et NXT baptizatae, inter NXT1950/1965/1970/1980 et NXT2000/2050/2100, respondent processibus infra 45nm. Exemplar principale EUV est NXE3400/3600, quod infra 7nm respondet.