Rapidus購入首台ASML EUV光刻機，推進2nm GAA半導體製程製造

Rapidus公司宣布，其購買的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E微影機已在IIM-1工廠交付並開始安裝。這是日本首台用於大規模生產尖端半導體的EUV微影系統。這款光刻機可滿足Rapidus首代量產製程2nm的製造需求，與前款NXE:3600D相比，晶圓吞吐量提升了37.5%。