Rapidus が 2nm GAA 半導体プロセス製造を推進するため、初の ASML EUV リソグラフィー装置を購入

Rapidus は、購入した最初の ASML TWINSCAN NXE:3800E リソグラフィ マシンが IIM-1 工場に納品され、設置されたと発表しました。最先端半導体量産用の日本初のEUVリソグラフィー装置です。このリソグラフィー装置は、Rapidus の第 1 世代量産プロセス 2nm の製造ニーズを満たすことができ、従来の NXE:3600D と比較して、ウェハスループットが 37.5% 向上しました。