A Rapidus megvásárolja az első ASML EUV litográfiai gépet, amely elősegíti a 2 nm-es GAA-félvezető folyamatgyártást

A Rapidus bejelentette, hogy az első általa vásárolt ASML TWINSCAN NXE:3800E litográfiai gépet leszállították és beszerelték az IIM-1 gyárba. Ez Japán első EUV litográfiai rendszere a legmodernebb félvezetők tömeggyártására. Ez a litográfiai gép megfelel a Rapidus első generációs, 2 nm-es tömeggyártási folyamatának gyártási igényeinek.