La base industrielle de matériaux épitaxiaux de Nanjing est mise en service de China Electronics Semiconductor Materials Co., Ltd.

Le projet de base industrielle de matériaux épitaxiaux de Nanjing de CETC Semiconductor Materials Co., Ltd. a été signé le 27 septembre 2021 et installé dans la zone sous douane globale de la zone de développement de Nanjing Jiangning, couvrant une superficie d'environ 100 000 mètres carrés. En novembre 2022, la base industrielle a réalisé le déploiement des premières épitaxies de silicium et d'épitaxie SiC, marquant ainsi l'entrée de la base industrielle dans la phase de production d'essai et de vérification. Une fois la production atteinte, le projet aura une capacité de production annuelle de 126 000 plaquettes épitaxiales composées de 6 à 8 pouces.