CETC Semiconductor Materials Co., Ltd. Nanjing Epitaxiale Materials Industrial Base wordt in gebruik genomen

Het Nanjing Epitaxial Materials Industrial Base Project van CETC Semiconductor Materials Co., Ltd. werd op 27 september 2021 ondertekend en vestigde zich in de Nanjing Jiangning Development Zone Comprehensive Bonded Zone, met een oppervlakte van ongeveer 100.000 vierkante meter. In november 2022 bereikte de industriële basis de uitrol van de eerste siliciumepitaxie en SiC-epitaxie, waarmee de industriële basis de fase van proefproductie en verificatie inging. Nadat het project de productie bereikt, zal het een jaarlijkse productiecapaciteit hebben van 126.000 6-8-inch samengestelde epitaxiale wafers.