Se pone en funcionamiento la base industrial de materiales epitaxiales de China Electronics Semiconductor Materials Co., Ltd. de Nanjing

El Proyecto de Base Industrial de Materiales Epitaxiales de Nanjing de CETC Semiconductor Materials Co., Ltd. se firmó el 27 de septiembre de 2021 y se instaló en la Zona Consolidada Integral de la Zona de Desarrollo de Nanjing Jiangning, con una superficie de aproximadamente 100.000 metros cuadrados. En noviembre de 2022, la base industrial logró el lanzamiento de la primera epitaxia de silicio y epitaxia de SiC, lo que marcó que la base industrial entró en la etapa de producción de prueba y verificación. Una vez que el proyecto alcance la producción, tendrá una capacidad de producción anual de 126.000 obleas epitaxiales compuestas de 6 a 8 pulgadas.