新陳半導体蘇州工場が稼動し、VCSELおよびEELレーザーチップの生産に注力

Xinchen Semiconductor (Suzhou) Co., Ltd.のエピタキシャル装置は、ガリウムヒ素 (GaAs) およびリン化インジウム (InP) 光チップ四元化合物全材料システムをカバーするエピタキシャル装置の生産を開始しました。現在、同社は760nmから1700nmの波長範囲でエピタキシャルウェーハの量産を実現しており、エピタキシャルの均一性は発振中心波長から外側2nm以内に制御されている。