Введен в эксплуатацию завод Xinchen Semiconductor в Сучжоу, специализирующийся на производстве лазерных чипов VCSEL и EEL.

Запущено в производство эпитаксиальное оборудование компании Xinchen Semiconductor (Suzhou) Co., Ltd., охватывающее цельноматериальные системы оптических чипов на основе арсенида галлия (GaAs) и фосфида индия (InP). В настоящее время компания добилась массового производства эпитаксиальных пластин в диапазоне длин волн от 760 до 1700 нм, при этом эпитаксиальная однородность контролируется в пределах 2 нм за пределами длины волны центра генерации.