German Aistron သည် ဆန်းသစ်တီထွင်မှု R&D စင်တာတည်ဆောက်ရန်အတွက် ယူရိုသန်း 100 ရင်းနှီးမြုပ်နှံထားသည်။

ဂျာမနီနိုင်ငံ၊ Herzogenrath ရှိ တီထွင်ဆန်းသစ်ထားသော စက်ပစ္စည်းထုတ်လုပ်သူ Aixtron ၏ ဆန်းသစ်တီထွင်ထားသော R&D စင်တာကို ဒီဇင်ဘာ ၁၃ ရက်တွင် တရားဝင်ထုတ်ဖော်ပြသခဲ့သည်။ အဆိုပါစင်တာကို စုစုပေါင်း ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှု ယူရို သန်း 100 (ယွမ်ငွေ သန်း 760 ခန့်) ရှိပြီး 2023 ခုနှစ် နိုဝင်ဘာလတွင် စတင်တည်ဆောက်မည်ဖြစ်သည်။ ဤ R&D စင်တာသည် 12 လက်မအရွယ် wafers များအတွက် gallium nitride နှင့် အခြားသော ဒြပ်ပေါင်း semiconductor applications များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်စေရန်အတွက် အဓိကရည်ရွယ်ပါသည်။ Aixtron ၏ ဥက္ကဌနှင့် CEO ဖြစ်သူ ဒေါက်တာ Felix Grawert က သန့်စင်ခန်းအသစ်သည် ကုမ္ပဏီအား နည်းပညာစျေးကွက်တွင် ၎င်း၏ခေါင်းဆောင်မှုနေရာကို ပိုမိုခိုင်မာအောင် ကူညီပေးလိမ့်မည်ဟု ပြောကြားခဲ့သည်။ လက်ရှိတွင်၊ Aixtron တွင် သုံးစွဲသူများစွာ၏ စမ်းသပ်ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းများတွင် ပေါင်းစည်းထားသည့် 12-လက်မ ဂယ်လီယမ်နိုက်ထရိတ် ရှေ့ပြေးပုံစံ စက်ကိရိယာ ပထမအသုတ်ရှိသည်။