ASML 交付首批 High NA EUV 微影系統模組

經過十年的研發，ASML 於2023 年12 月正式向英特爾交付了首個High NA（高數值孔徑）EUV 光刻系統——TWINSCAN EXE:5000的首批模組， 代表著尖端晶片製造向前邁出了重要一步。