ASML leverer første parti High NA EUV litografisystemmoduler

Efter ti års forskning og udvikling leverede ASML officielt det første parti moduler af det første High NA (high numerical aperture) EUV litografisystem-TWINSCAN EXE:5000 til Intel i december 2023, hvilket repræsenterer et skridt fremad inden for banebrydende chipproduktion et vigtigt skridt.