ASML levert eerste batch High NA EUV-lithografiesysteemmodules

Na tien jaar onderzoek en ontwikkeling heeft ASML in december 2023 officieel het eerste High NA (high numerieke apertuur) EUV-lithografiesysteem aan Intel geleverd - de eerste modules van TWINSCAN EXE:5000, die een stap voorwaarts vertegenwoordigen in de geavanceerde chipproductie en belangrijke stap.