ASML liwwert éischt Partie vun High NA EUV Lithographie System Moduler
Jo
EUV
AN
Mo
ASML
Chip
Fuerschung an Entwécklung
Fuerschung
Jo
Fuerschung
Moduler
Moduler
Lithographie
Joer
2023
Entwécklung
2024-12-26 21:14
39
No zéng Joer Fuerschung an Entwécklung huet ASML offiziell den éischten High NA (High numerical Aperture) EUV Lithographie System un Intel am Dezember 2023 geliwwert - déi éischt Moduler vum TWINSCAN EXE: 5000, representéiert e Schrëtt no vir an der moderner Chipfabrikatioun vun enger wichteger Chip. Schrëtt.
