ASML dostavi prvo serijo sistemskih modulov za litografijo High NA EUV

Po desetih letih raziskav in razvoja je ASML decembra 2023 Intelu uradno dostavil prvi litografski sistem High NA (visoka numerična apertura) EUV – prve module TWINSCAN EXE:5000, ki predstavljajo pomemben korak naprej v vrhunski proizvodnji čipov. korak.