ASML dostarcza pierwszą partię modułów systemu litograficznego High NA EUV

Po dziesięciu latach badań i rozwoju firma ASML oficjalnie dostarczyła pierwszą partię modułów pierwszego systemu litograficznego EUV o wysokiej NA (wysokiej aperturze numerycznej) – TWINSCAN EXE:5000 do firmy Intel w grudniu 2023 r., co stanowi krok naprzód w najnowocześniejszej produkcji chipów ważny krok.